AZ91C镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多弧离子镀法制备与表征

腐蚀与防护, 2008, 29(4): 182-184. doi: 10.3969/j.issn.1005-748X.2008.04.004

AZ91C镁合金表面Ti-TiN复合镀层的阴极多弧离子镀法制备与表征

王成龙 ^1, , 范多旺 ^2, , 刘红忠 ^3, , 赵琳 ^4, , 卢萍 ^5, , 冷娜 ^6,

1.兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,730070

2.兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,730070;兰州大成自动化工程有限公司,兰州,730070

3.西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049

4.兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,730070

5.兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,730070

6.兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,730070

基金项目: 国家支撑计划项目(2006BAE04B05-3) 教育部长江学者与创新团队发展计划项目(IRT0629) 国家高技术研究发展计划(863计划)(2006AA05Z411) 国家自然科学基金(50505037)

关键词：镁合金 , 阴极多弧离子 , TiN复合层

Ti-TiN Films Prepared by Cathodic Multi Arc Ion Plating on Magnesium Alloy AZ91C

采用阴极多弧离子镀膜技术,在AZ91C镁合金基底上首次成功镀制了结合力强的以Ti为过渡层的TiN复合膜层,并利用高分辨扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、显微划痕测试等技术对复合膜层的形貌、组织结构及性能进行分析研究.结果表明,采用多弧离子镀膜工艺,能在经过恰当预处理的镁合金基底上制备出性能良好的TiN膜,膜层均匀、致密,膜基结合力达130 mN以上,复合硬度达500 HV左右(AZ91镁合金基底为125 HV).此外中性盐雾强化实验表明,经该方法处理后的镁合金在ASTM-B117标准测试条件下,腐蚀速率明显降低,经过200 h后,表面无明显腐蚀现象.真空多弧离子镀膜技术有望在镁合金表面防护领域得到应用.

参考文献

[1]	Ohser-Wiedemann R;Hollstein F;Bayer U.[J].Materials Research and Advanced Techniques,2005(96):818-822.
[2]	赵家政;徐洮.分析电子显微使用手册[M].银川:宁夏人民教育出版社,1996:100-101.
[3]	范多旺;王成龙;范多进等.镁及其合金表面真空镀层的制备方法[P].CN 101086057,2007.

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