采用真空磁过滤电弧离子镀方法,在GT35基体上沉积类金刚石膜.通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究,制定出了合理的工艺路线,并对这种膜层进行了X-射线光电子谱(XPS)分析,利用干涉仪、纳米硬度计对膜层的粗糙度、纳米硬度作了进一步检测.结果表明,采用此种方法制备的类金刚石膜层,SP3含量约为40.1%;组织致密,无大的颗粒;镀膜后的粗糙度可以达到0.015 μm;纳米硬度约为55 GPa.并将膜层与TiN膜层组成摩擦副,进行了耐磨性试验,结果表明膜层的耐磨性较好.
参考文献
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