砷化镓晶片表面的XPS研究

1.天津大学,化工学院,天津,300072;信息产业部,电子第四十六研究所,天津,300192

2.天津大学,化工学院,天津,300072

3.信息产业部,电子第四十六研究所,天津,300192

4.信息产业部,电子第四十六研究所,天津,300192

XPS Study of Surface Properties of GaAs Wafers

用X射线光电子能谱分析技术(XPS)研究了几种砷化镓抛光片及经不同表面处理方法处理的砷化镓晶片表面的化学计量比和表面化学组成.结果表明砷化镓抛光片的表面自然氧化层中含有Ga2O3、As2O5、As2O3及元素As;表面化学计量比明显富镓,而经过适当的化学处理后这些表面特性能得到较大改善.

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