数字化掩模制作系统的核心控制部件是数字微镜.文中系统分析了数字微镜控制系统对数字化掩模制作系统精度的影响.指出误差来源主要为数字微镜帧刷新率、像素黑栅效应、像素量化和调制非线性等因素,并分别提出了相应的误差修正或补偿方法.提高系统的精缩倍数、像素分辨率以及占空比,可以降低这些误差来源的影响.
参考文献
[1] | Fu Yongqi,Lu Zhenwu,Ma Yueying,et al.Analysis of errors & calibration method for manufacturing multilevel diffractive optical element by ion etching[J].SPIE,1998,3357:181-184. |
[2] | 陈劲松.数字掩模技术[J].液晶与显示,2006,21(6):700-702. |
[3] | 陈恭华,贾建援.数字微反射镜的机械光学特性研究[J].应用光学,2001,22(2):14-19. |
[4] | 邹静娴,吴容志.数字微镜器件(DMD)[J].液晶与显示,2003,18(6):445-449. |
[5] | Kevin J Kearney,Zoran Ninkov.Characterization of a digital micromirror device for use as an optical mask in imaging and spectroscopy[J].SPIE,1998,3292:81-92. |
[6] | 李红军,赵晶丽,卢振武,等.二元光学元件制作过程中的线宽误差[J].光电子·激光,2000,11(3):279-281. |
[7] | 颜树华,戴一帆,吕海宝,等.电寻址空间光调制器"黑栅"效应的消除方法[J].光子学报,2002,31(11):1421-1424. |
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