Si/SiO2薄膜采用射频磁控溅射技术制备,当正向偏压大于5V时即可观测到来自不同Si层厚度的Au/(Si/SiO2 )/p-Si 结构在室温下的可见电致发光,其发光谱峰位均位于660nm处,测得的各种偏压下的发光峰位不随正向偏压的升高而移动.实验结果表明光发射主要来自于SiO2层中的发光中心上的复合发光.
参考文献
[1] | Lu Z H;Lockwood D J;Baribeau J M .[J].Nature,1995,378(11):258-260. |
[2] | Qin GG.;Ma ZC.;Zong WH.;You LP.;Ma SY. .Electroluminescence from amorphous Si/SiO2 superlattices[J].Solid State Communications,1998(6):329-333. |
[3] | Skuja L N;Silin A R .[J].Physica Status Solidi A,1979,56(11):495-501. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%