等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究

1.中国科学院上海冶金研究所离子束开放实验室,上海,200050

2.中国科学院上海冶金研究所离子束开放实验室,上海,200050

3.中国科学院上海冶金研究所离子束开放实验室,上海,200050

Dose uniformity study with PIC method in plasma immersion ion implantation of circular plate

采用PIC(Particalincall)方法考察了等离子体浸没式离子注入工艺中,样品和靶台的几何尺寸、形状及防止溅射沾污的绝缘材料对于注入离子径向分布的影响.并对模拟结果进行了讨论分析.结果表明,影响剂量分布的主要因素是基片和靶台的横向尺寸,为改善等离子体浸没式离子注入均匀性的研究提供参考数据.

[1]	Sheridan T E;Alport M J .[J].Journal of Vacuum Science and Technology B,1994,B12(02):897.
[2]	Verlet L .[J].Physical Review,1967,159:98.

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