阴极恒电流法电沉积SnS薄膜

功能材料与器件学报 , 2004, 10(4): 441-445. doi: 10.3969/j.issn.1007-4252.2004.04.009

阴极恒电流法电沉积SnS薄膜

程树英 ^1, , 陈岩清 ^2, , 钟南保 ^3, , 黄赐昌 ^4, , 陈国南 ^5,

1.福州大学化学系,福州,350002;福州大学电子科学与应用物理系,福州,350002

2.福州大学电子科学与应用物理系,福州,350002

3.福州大学电子科学与应用物理系,福州,350002

4.福州大学电子科学与应用物理系,福州,350002

5.福州大学化学系,福州,350002

基金项目: 福州大学校科研和教改项目(XJBH- 0201) 福建省教育厅科研项目(JA03009) 福建省人才基金(XJBH- 0202)

关键词：电沉积 , SnS薄膜 , 电流密度

Preparation of SnS film by constant current cathodic electrodeposition

用阴极恒电流沉积法制备 SnS薄膜.研究了溶液的 pH值、离子浓度比、电流密度等电沉积参数对薄膜组分的影响,得出制备 SnS薄膜的理想的工艺条件为: pH=2.7,Sn2+ :S2O32- =1:5, J=3.0mA· cm- 2,t=1.5h,并制备出了成分为 Sn0.995S1.005的膜层.用扫描电镜观察了该薄膜的表面形貌,用 X射线衍射分析了其物相结构,表明它是具有正交结构的 SnS多晶薄膜 ,晶粒大小不一, 在 200- 800nm之间.用分光光度计测量了该薄膜在 400- 3000nm波段的透射光谱和吸收光谱, 发现其在 400- 900nm波段的透过率较低, 在 950- 1000nm附近有明显的吸收边 , 在波长大于 1000nm后其透过率较大.

参考文献

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