APCVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其性能研究

功能材料与器件学报 , 2006, 12(3): 187-191. doi: 10.3969/j.issn.1007-4252.2006.03.005

APCVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其性能研究

王薇薇 ^1, , 郭玉 ^2, , 张溪文 ^3, , 韩高荣 ^4,

1.浙江大学,硅材料国家重点实验室,杭州,310027

2.浙江大学,硅材料国家重点实验室,杭州,310027

3.浙江大学,硅材料国家重点实验室,杭州,310027

4.浙江大学,硅材料国家重点实验室,杭州,310027

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)(2001AA320202) 中国科学院资助项目(50372060)

关键词：光催化性 , 亲水性 , 掺氮二氧化钛薄膜 , 常压化学气相沉积

Preparation and properties of N -doped TiO2 films by APCVD

采用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiCl4)、氧气(O2)氨气(NH3)作为先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜.通过对其进行扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外可见透过光谱(UV-VIS)研究后发现,氮掺杂后在二氧化钛薄膜中引入Ti4O7相,抑制了锐钛矿相向金红石相的转变,光吸收限发生红移,相应从365.8nm红移到了402.6nm,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能.

参考文献

[1]	Asahi R;Ohwaki T;Aoki K .Visible-light photocatalysis in Nitrogen-doped titanium oxides[J].Science,2002,293(5528):269-271.
[2]	Morikawa Takeshi;Asahi Ryoji;Ohwaki Takeshi .Bandgap narrowing of Titanium dioxide by Nitrogen doping[J].Japanese Journal of Applied Physics,2001,40(06):561-563.
[3]	Sakthivel S;Kisch H.Photocatalytic and photoelectrochemical properties of Nitrogen-doped titanium dioxide[J].ChemPhysChem:A European Journal of Chemical Physics and Physical Chemistry,2003(04):487-490.
[4]	Clemens Burda;Yongbing Lou;Xiaobo Chen;Anna C. S. Samia;John Stout;James L. Gole .Enhanced Nitrogen Doping in TiO_2 Nanoparticles[J].Nano letters,2003(8):1049-1051.
[5]	Irie H;Watanabe Y;Hashimoto K .Visible-light induced hydrophilicity on nitrogen-substituted titanium dioxide films[J].Journal of Physical Chemistry B,2003,107(23):5483-5486.
[6]	Lee Dong Heon;Cho Yong Soo;Yi Woul In .Metalorganic chemical vapor deposition of TiO2:N anatase thin film[J].Applied Physics Letters,1995,66(07):815-816.
[7]	Saha N C;Tompkins H G .Titanium nitride oxidation chemistry:an x-ray photoelectron spectroscopy study[J].Journal of Applied Physiology,1992,72(07):3072-3079.

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Preparation and properties of N -doped TiO2 films by APCVD

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