介绍了上海深紫外自由电子激光用光阴极微波电子枪采用发射度补偿技术的结果. 详细分析了线性空间电荷力的特点及对束流发射度的影响, 从束流动力学和相空间两方面讨论了发射度补偿原理. 给出了补偿线圈的设计结构及其轴向场分布. 利用PARMELA程序对补偿效果作了模拟计算. 结果表明, 设计的腔体对单圈1.5 nC束团, 在枪出口后1.2 m处, 电子能量为5.7 MeV, 横向归一化发射度εn,RMS=1.612 π mm*mrad.
参考文献
| [1] | 陈森玉, 何多慧, 赵小风等. 深紫外自由电子激光实验装置前期议向性建议书 [Z]. 1998, 19. |
| [2] | Carlsten B E. New Photoelectric Injector Design for the Los Alamos National Laboratory XUV FEL Accelerator [J]. Nucl Instr & Meth, 1989, A285: 313. |
| [3] | Gallardo Juan C, Palmer Robert B. Emittance Correction of Photocathode Gun [J]. Nucl Instr & Meth, 1991, A304: 345. |
| [4] | Palmer D T. The Next Generation Pheoloinjector [D]. Stanford Unviersity, 1998. |
| [5] | Luca Serafini, James B Rosenzweig. Envelop Analysis of Intense Relativistic Quasilaminar Beams in RF Photoinjectors: A theory of emittance compensation[J]. Phys Rev, 1997, E55:7 565. |
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