纳米结构制作技术中,原子光刻具有独特的优势.为了能够达到纳米制作的要求,并得到所需的沉积条纹,设计了一套实验装置,并分别对原子光刻技术中的原子源、激光系统、稳频系统、原子准直系统和沉积结果进行具体的分析.根据所设计的实验装置,采用分步实验的方式,对各子系统进行了相关数据的采集和测试.其中,稳频精度达到了0.26 MHz精度,铬原子发散角经激光冷却系统由4.5 mrad降低到了0.9 mrad,最后沉积的纳米条纹间距为234 nm条纹高度约为0.276 nm.
参考文献
| [1] | Cai Weiquan,Wang Yuzhu.Atom lithography[J].Acta Physica Sinica (物理学报),1999,48:611 (in Chinese). |
| [2] | Jurd(l)k E.Laser manipulation of atoms and nanofabrication[D].Katholieke University 2001. |
| [3] | Dale H.The programs of the Manufacturing Engineering Laboratory at NIST,Gaithersburg[R].MD 20899-8200,2003. |
| [4] | Koenders L.WGDM-7 Preliminary Comparison on Nanometrology:Nano2-step Height Standards Report[R].PTB Braunschweig,2003.4 |
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