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连续旋转化学气相浸渗是在CVI原理基础上发展的一种快速制备C/C复合材料的新工艺.通过底部发热体加热使石墨衬底及缠绕其上的二维C布获得了具有低、中、高三个温度区域的合理温度场,使微观孔隙与宏观孔隙分别在不同的温度区进行致密化.在沉积过程中反应物气体渗入的深度仅为一层(或几层)C布,突破了一般CVI法中"瓶颈"效应对沉积温度的制约,使沉积速度显著提高.通过实验研究了沉积温度、反应物气体中C3H6浓度和衬底旋转线速度等对沉积速度的影响,以及反应物气体在反应区的停留时间与沉积温度对C3H6转化率的影响.

参考文献

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