具有高结合强度的铝基片SiOx陶瓷膜层CVD制备

1.浙江大学材料与化工学院,浙江,杭州,310027

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3.浙江大学材料与化工学院,浙江,杭州,310027

4.浙江大学测试中心,浙江,杭州,310027

基金项目: 浙江省自然科学基金 (599067)

Highly Adhesive SiOx Film on Aluminum Alloys Prepared by CVD Processes

采用常压CVD方法在铝合金基底上制备出硅氧化合物陶瓷膜层.使用SEM、TEM及XPS仪分析了膜层形貌、成分和组织结构,通过180°、90°弯曲实验和450 ℃热冲击实验考察了陶瓷膜层与基片的结合性能,证实该技术制备的膜层与基底的结合强度很高.

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