高速喷射电沉积块体纳米晶C0-Ni合金

材料热处理学报, 2004, 25(1): 61-65. doi: 10.3969/j.issn.1009-6264.2004.01.016

高速喷射电沉积块体纳米晶C0-Ni合金

乔桂英 ^1, , 荆天辅 ^2, , 高明 ^3, , 王艳 ^4, , 高聿为 ^5, , 韩东升 ^6,

1.燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004

2.燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004

3.燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004

4.燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004

5.燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004

6.燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004

基金项目: 河北省自然科学基金(598250) 燕山大学校科研和教改项目

关键词：高速喷射电沉积 , 块体纳米晶Co-Ni合金 , 沉积速率 , 微观结构

Study on High Speed Jet-electrodeposition Bulk Nanocrystalline Co-Ni Alloy

采用自制的高速喷射电沉积装置制备了块体纳米晶Co-Ni合金,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co-Ni合金沉积层组织结构的影响,并与槽镀沉积层进行了对比.结果表明:采用该方法后允许使用的极限电流密度、沉积速率及电流效率均显著增大,沉积速率高达47.33μm/min,是一般槽镀的90倍左右.随着电流密度的增加,沉积速率呈近似线性增加,但电流效率增大到一定值后基本不变.电流密度对沉积层成分影响不大,但明显减小沉积层的晶粒尺寸.与一般槽镀相比,晶粒尺寸由23.07nm减小到9.18nm.

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