研究AZ31镁合金微弧氧化过程中不同控制参数对膜性能的影响.镁合金微弧氧化中存在一个二次放电过程,它会对已长成的膜起破坏作用.通过改变溶液成分或浓度可对镁合金微弧氧化临界点的出现时间进行控制.在此基础上进一步研究一次放电不同控制过程对膜层性能的影响,发现采用渐进式升压方式能提高膜的致密层和疏松层的比例,但对膜的总厚度影响不大.合适的阴极匹配电压,可减小功耗,降低气孔率,改善膜的性能.
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