欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

根据现有物理学理论推导得出的闪络场强Et和闪络电压Vt的表达式显示,影响闪络场强和闪络电压的物理因素有:初始电子的出射状态(出射动能A o、出射角度0)、绝缘材料介电常数ε、绝缘体表面吸附气体分子脱附系数γ、绝缘长度L、绝缘体表面单位面积的脱附气体分子数M、脱附气体离开绝缘体表面的速率Vgas等等.利用MathCAD绘图软件绘制出Et和Vt随绝缘长度的变化趋势图证明,两曲线变化趋势及量级与所得实验结果一致.实验研究也证明,随着绝缘长度的增加,真空绝缘沿面闪络场强呈下降趋势;应用二次电子崩理论分析真空闪络的发生发展机理是合理的.

参考文献

[1] 高巍 .高压纳秒脉冲下真空绝缘沿面闪络特性研究[D].中国科学院电工研究所,2005.
[2] Pillai A S;Hackam R .Surface Flashover of Solid Insulators in Atmosphere Air and in Vacuum[J].Journal of Applied Physics,1985,58(01):146-153.
[3] 薛增泉;吴全德.电子发射与电子能谱[M].北京:北京大学出版社,1993
[4] Zhang G J;Wang X;Yah Z.The Correlation Between Surface Chemical Elements of Solid Insulating Materiala and Their Flashover Characteristic5 in Vacuum[A].,2002
[5] 高本辉;崔素言.真空物理[M].北京:科学出版社,1983
[6] Kartalovic;Atanackov N;Loncar N.Some Contribution to Vacuum Electrical Breakdown Mechanism Research[A].,1997:1674-1679.
[7] 杨德清;庄伟.电子发射原理与应用[M].昆明:云南大学出版社,1995
[8] Litvinov E A;Mesyats G A;Proskurovskii D I .Field Emission and Explosive Electron Emission Processes in Vacuum Discharges[J].Soviet Physics Uspekhi,1983,26(02):138-159.
[9] 方俊鑫;殷之文.电介质物理学[M].北京:科学出版社,2003
[10] 陈丕瑾.真空技术的科学基础[M].北京:国防工业出版社,1985
[11] Anderson R A;Brainsrd J P .Mechanism of Pulsed Surface Flashover Involving Electron-Stimulated Desorption[J].Journal of Applied Physics,1980,51(03):1414-1421.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%