BPxN1-x薄膜的制备及磷元素对其光学能隙的影响

材料科学与工程学报, 2003, 21(3): 335-338. doi: 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.03.005

BPxN1-x薄膜的制备及磷元素对其光学能隙的影响

徐世友 ^1, , 祁英昆 ^2, , 张溪文 ^3, , 韩高荣 ^4,

1.硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系,浙江,杭州,310027

2.硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系,浙江,杭州,310027

3.硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系,浙江,杭州,310027

4.硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系,浙江,杭州,310027

基金项目: 国家自然科学基金(60006003)

关键词： BPxN1-x薄膜 , 光学能隙 , 磷掺杂 , 紫外液晶光阀

Deposition of BPx N1-x Thin Films and Study on the Influence of Phosphorus for its Bandgap Modulation

本文从应用出发,选择光学石英为衬底,采用热丝辅助射频化学气相沉积的方法沉积BPxN1-x薄膜,对样品进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见等测试.XRD、SEM结果显示薄膜多晶态,表面形貌随时间变化,最终为胞状;紫外-可见光光谱结果显示BPxN1-x薄膜的紫外吸收边随沉积时间的加长、PH3流量的增加而向长波长方向移动.因此,该材料的光学能隙可以通过生长工艺适当调整.另外,BPxN1-x薄膜与液晶层能较好匹配等特性更使其适用于紫外空间光调制器.

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BPxN1-x薄膜的制备及磷元素对其光学能隙的影响

Deposition of BPx N1-x Thin Films and Study on the Influence of Phosphorus for its Bandgap Modulation

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