端羟基含苯基聚二甲基硅氧烷薄膜的制备和摩擦学性能研究

1.中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000;中国科学院研究生院,北京,100039

2.中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000

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5.中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000

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基金项目: 国家自然科学基金(50275142,50405040) 中国科学院"百人计划" 国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA302609)

Preparation and Tribological Behavior of the End Hydroxyl Group Phenyl-containing Poly Silicone Film

采用旋涂法在功能化基底上制备交联聚硅氧烷薄膜,用DF-PM型静-动摩擦试验机评价薄膜的摩擦学性能.在表面羟基化基上制备的聚硅氧烷薄膜同钢球对摩时,摩擦系数较低,耐磨寿命更长,适合作为低载荷下的减摩抗磨防护层.

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