电子束蒸发与磁控溅射制备Al/PI复合薄膜的性能研究

中国材料进展, 2008, 27(6): 21-24.

1.山东天诺光电材料有限公司,山东,济南,250101

2.山东天诺光电材料有限公司,山东,济南,250101

3.山东天诺光电材料有限公司,山东,济南,250101

4.山东华光光电子有限公司,山东,济南,250101

5.山东建筑大学,山东,济南,250101

基金项目: 国防基础科研项目(B0920061337) 济南市科技攻关项目(065012)

Study on Performance of Al/PI Films Prepared by Electron Beam Evaporation and Magnetron Sputtering

利用磁控溅射法和电子束蒸发法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积了铝功能膜.测试了两种方法薄膜的膜厚、附着力、反射率、折射率和电导率.结果表明,磁控溅射法制备的铝膜的综合性能较电子束蒸制备的铝膜的性能优越.

[1]	李云奇.真空镀膜技术与设备[M].Shenyang:Northeastern Jinstitute of Technology Press,1989:38-121.
[2]	齐迎春,金光,许艳军.关于薄膜反射镜成形机理的研究[J].宇航学报,2006(z1):218-221.
[3]	齐迎春,金光,赵勇志.聚酰亚胺薄膜反射镜的研究现状[J].材料导报,2006(08):5-8.
[4]	欧毅,宋玉龙,刘明,凌志华.LCoS反射层的实验研究[J].液晶与显示,2005(06):554-557.
[5]	陈荣发.电子束蒸发与磁控溅射镀铝的性能分析研究[J].真空,2003(02):11-15.
[6]	祝国龙,冯仕猛,邵建达,易葵,范正修.溅射气压对X射线多层膜反射率的影响[J].光子学报,2001(05):572-575.
[7]	范平,邵建达,易葵,齐红基,范正修.Cu膜的光学特性尺寸效应及最小连续膜厚研究[J].光子学报,2006(10):1542-1546.
[8]	张树人,陈国良,赵靖,郭太良.高性能导电薄膜的制备[J].真空电子技术,2007(01):12-16.

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