SiC是一种宽带隙半导体材料,在高温、高频、大功率、光电子及抗辐射等方面具有巨大的应用潜力。介绍了国外对该材料及其薄膜进行辐照的一些结果,并指出开展SiC及其薄膜辐照效应研究的重要意义,预测了其发展方向和应用前景。
参考文献
[1] | 赫跃;彭军;杨银堂.碳化硅宽带隙半导体技术[M].北京:科学出版社,2000 |
[2] | 沈能钰;孙同年.现代电子材料技术[M].北京:国防工业出版社,2000 |
[3] | Iseki T;Yano T;Miyazaki H .[J].Journal of Nuclear Materials,1992,191-194:588. |
[4] | Kasahara S;Katano Y;Shimanuki S et al.[J].Journal of Nuclear Materials,1992,191-194:579. |
[5] | Carl J;McHargue;Williams J M .[J].Nuclear Instruments and Methods in Physics Research,1993,B80/81:889. |
[6] | Heera V;Stoemenos J;Kogter R et al.[J].Journal of Applied Physics,1995,77(07):2999. |
[7] | Hemmingsson C.;Kordina O.;Janzen E.;Lindstrom JL.;Son NT. .Capture cross sections of electron irradiation induced defects in 6H-SiC[J].Journal of Applied Physics,1998(2):704-708. |
[8] | Heera V.;Stoemenos J.;Kogler R.;Voelskow M.;Skorupa W. .Crystallization and surface erosion of SiC by ion irradiation at elevated temperatures[J].Journal of Applied Physics,1999(3):1378-0. |
[9] | Heera V;Kogter R;Stoemenos J .[J].Journal of Appl Letters,1995,67:1999. |
[10] | Gong M;Fung S;Beling C D et al.[J].Journal of Applied Physics,1999,85(11):7604. |
[11] | 赖祖武;包宗明.抗辐射电子学[M].北京:国防工业出版社,1998 |
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