硒化锌的化学机械抛光研究

人工晶体学报, 2015, 44(1): 61-65.

硒化锌的化学机械抛光研究

吴传超 ^1, , 安永泉 ^2, , 王志斌 ^3, , 杨常青 ^4, , 张瑞 ^5,

1.山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051

2.山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051

3.山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051;中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室,太原030051

4.山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051

5.山西省光电信息与仪器工程技术研究中心,太原030051

基金项目: 国际科技合作项目(2013DFR10150)

关键词： ZnSe晶片 , 化学机械抛光 , 表面粗糙度

Study on the Chemical Mechanical Polishing of ZnSe

Keywords： ZnSe wafer , chemical mechanical polishing , surface roughness

采用化学机械抛光(CMP)的方法,自制抛光液作为研磨介质,对(50×50×1.5)mm3硒化锌(ZnSe)晶片抛光.通过分析抛光液的pH值、抛光盘转速、抛光液的磨料浓度、压力、抛光时间和抛光液流量等参数对CMP的影响,组合出最佳工艺参数,并通过原子力显微镜和平晶测试方法对最佳工艺参数获得的ZnSe晶片进行测试,实验结果显示,ZnSe晶片抛光后的表面粗糙度Ra为0.578 nm,平面面形误差小于1.8 μm.

参考文献

[1]	张玉兰,卢利平,臧春和,李永亮,王英伟,李长江,朱忠丽,孙晶.硒化锌晶体加工工艺研究[J].硅酸盐学报,2004(05):612-615.
[2]	么艳平,张玉兰,李长江,刘景和.硒化锌晶体光学加工中的宏观应力[J].硅酸盐学报,2007(02):247-250.
[3]	刘立新,张学建,张莹,吕凯,张志斌,张辉荣,官周国,刘景和.铌酸锂晶体的抛光机理及精密加工工艺[J].硅酸盐学报,2008(11):1609-1614.
[4]	圆光栅玻璃的游离磨料研磨抛光加工工艺[J].金刚石与磨料磨具工程,2014(03):52-56.
[5]	Effect of Etching and Chemomechanical Polishing on the Surface Quality of Polycrystalline ZnSe[J].Inorganic materials,2010(3):p.259.

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