利用对靶磁控溅射的方法,在Al2O3基片上面生长WO3薄膜,并在200、300、400、600℃的空气环境中对薄膜进行了热处理,利用AFM、SEM及XRD方法观察了薄膜的表面形貌特征,分析了薄膜的性质和微观结构.根据SEM图观察可知,薄膜在退火温度为300℃时具有均匀的纳米颗粒,当再次退火温度>600℃时,观察薄膜表面形貌和颗粒结构没有任何改变,实验结果表明,当工作温度为250℃时,经过两步热处理方法制备的WO3薄膜对浓度为3×10-5的乙醇气体显示了优异的性能,通过两步热处理的方法能制备出稳定的WO3纳米薄膜结构.
参考文献
| [1] | Hongming L;Chiming H S;Hueyyih Y et al.[J].Sensors and Actuators,1994,B22:63-68. |
| [2] | Smith D J;Vetelino J F;Falconer R S et al.[J].Sensors and Actuators,1993,B13-14:264-268. |
| [3] | Lee D S;Han S D .[J].Sensors and Actuators B:Chemical,1999,60:57-63. |
| [4] | Wang X;Miuna N;Yamazoe N .[J].Sensors and Actuators B:Chemical,2000,66:74-76. |
| [5] | Hoel L F;Reyes P;Heszler V.[J].Current Applied Physics,2004:4547-4553. |
| [6] | Esra O;Se-Hee L;Ping L et al.[J].Solid State Ionics,2002,149:139-146. |
| [7] | Porqueras I;Bertran E .[J].Thin Solid Films,2007,377-378:129-133. |
| [8] | Nishio K;Sei T;Tsuchiya T .[J].Journal of the Ceramic Society of Japan,1999,107(03):199-205. |
| [9] | Wilde R E;Srinivasan T T K;Ghosh S N J .[J].Inorganic and Nuclear Chemistry,1973,35:1021-1024. |
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