U-Ta合金中Ta含量的EDXRF法测定

稀有金属材料与工程, 2012, 41(3): 539-541.

U-Ta合金中Ta含量的EDXRF法测定

杨锁龙 ^1, , 余春荣 ^2, , 杨光文 ^3, , 高戈 ^4, , 吴伦强 ^5,

1.表面物理与化学国家重点实验室,四川绵阳621907

2.中国工程物理研究院,四川绵阳621900

3.中国工程物理研究院,四川绵阳621900

4.中国工程物理研究院,四川绵阳621900

5.中国工程物理研究院,四川绵阳621900

关键词： U-Ta合金 , X射线荧光光谱分析 , Ta含量

Determination of Ta Content in U-Ta Alloy by EDXRF

介绍了用能量色散X射线荧光光谱(EDXRF)法测定U-Ta合金中Ta含量的分析方法.该方法将样品溶解,加载于滤纸片上,制成滤纸试样片,用X射线荧光光谱仪测定试样片中Ta含量.该方法简便、快速、准确,适用于Ta含量在1％～6％范围的U-Ta合金样品的Ta含量测定.对Ta含量为1.5％的样品,测量结果的相对标准偏差(n=6)不大于0.6％; Ta含量为5％的样品,测量结果的相对标准偏差(n=6)不大于0.3％.

参考文献

[1]	杨明太,高戈,齐红莲.EDXRF法无损测定Ni-Mn-Co触媒合金组份[J].原子能科学技术,2000(Z1):49-52.
[2]	刘亨远,严振庄,谢东.X 射线荧光法精确测定金属镀层的镀布量[J].分析仪器,1997(01):44.
[3]	杨明太,高戈,陈锦华,齐红莲.EDXRF法直接测定氧化物陶瓷材料组分[J].稀有金属材料与工程,2003(04):317-320.
[4]	杨明太,高戈,齐红莲.EDXRF法测定W-Mo-Ni-Fe合金组分[J].稀有金属材料与工程,2007(11):2065-2068.

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