采用直流磁控溅射方法制备Ti/Cu和Cu/Nb多层金属反射膜,并对膜的紫外光反射性能进行研究,发现该膜的反射性能与基片的结构和温度、多层膜的周期和结构有关.选用取向为(100)的单晶Si为基片,在基片温度为470℃左右、多层膜的周期为30时,膜的结晶性较好.且多层膜的反射率随波长的减小而增加,在波长为250nm时,反射率可达到65%
参考文献
| [1] | Hisataka Takenaka;Tomoki Kawamura;Tsuneyuki Haga et al.[J].Japanese Journal of Applied Physics,1995,34:5027-5031. |
| [2] | Smith B W;Bloch J J;Roussel-Dupre D .[J].SPIE X-Ray/EUV Optics for Astronomy and Microscopy,1989,1160:171-175. |
| [3] | Peng RW;Hu A;JiangSS .[J].Applied Physics Letters,1991,59(20):11,2512-2514. |
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