氮化铀薄膜的制备及性能研究

稀有金属材料与工程, 2015, 44(8): 1975-1978.

氮化铀薄膜的制备及性能研究

陆雷 ^1, , 肖红 ^2, , 李芳芳 ^3, , 钟永强 ^4, , 白彬 ^5, , 刘柯钊 ^6,

1.中国工程物理研究院,四川绵阳,621900

2.中国工程物理研究院,四川绵阳,621900

3.中国工程物理研究院,四川绵阳,621900

4.中国工程物理研究院,四川绵阳,621900

5.中国工程物理研究院,四川绵阳,621900

6.中国工程物理研究院,四川绵阳,621900

基金项目: 中国工程物理研究院基金资助(2011B0301057) 国家自然科学基金资助(91026016)

关键词：氮化铀 , 薄膜 , 磁控溅射

Preparation and Characteristics of Uranium Nitride Thin Films

Keywords： uranium nitride , films , magnetron sputtering

开展了氮化铀薄膜射频制备及薄膜性能研究,通过优化氮化铀薄膜的制备工艺条件,成功在Si基片上制备了氮化铀薄膜,并利用扫描电镜、原子力显微镜、X射线电子衍射、俄歇电子能谱仪和X射线光电子能谱对氮化铀薄膜进行了表面形貌和结构组分分析.结果表明:利用射频磁控沉积法制备的氮化铀薄膜为比较平整和致密的U2N3和UNxOy的混合相组成,具有一定的抗氧化腐蚀性能.

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Preparation and Characteristics of Uranium Nitride Thin Films

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