沉积时间和靶电流比例对磁控溅射TiAlN涂层耐磨性的影响

稀有金属材料与工程, 2016, 45(12): 3057-3061.

沉积时间和靶电流比例对磁控溅射TiAlN涂层耐磨性的影响

汤勇 ^1, , 马博 ^2, , 刘彬 ^3, , 袁伟 ^4, , 余彬海 ^5, , 陆龙生 ^6,

1.华南理工大学表面功能结构先进制造广东省普通高校重点实验室,广东广州,510640

2.华南理工大学表面功能结构先进制造广东省普通高校重点实验室,广东广州,510640

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5.华南理工大学表面功能结构先进制造广东省普通高校重点实验室,广东广州,510640

6.华南理工大学表面功能结构先进制造广东省普通高校重点实验室,广东广州,510640

基金项目: Fundamental Research Funds for the Central Universities,SCUT (2013ZZ017) Major State Basic Research Development Program of China ("973" Program)(2011CB710703) National Nature Science Foundation of China (51275180)

关键词：耐磨性 , 涂层 , TiAlN

Influences of Sedimentation Time and Target Current Ratio on Wear Resistance of a Magnetron Sputtered TiAlN Coating

Keywords： resistance , coating , TiAlN

采用磁控溅射工艺在WC-8Co硬质合金基体表面制备了一层厚度分别为2.5、3和3.5 μm的TiAlN涂层,并制备了不同Ti、Al比例的TiAlN涂层,利用摩擦磨损机考察了涂层的承载能力和摩擦学性能,通过扫描电子显微镜观察了磨损试件的表面形貌,通过摩擦系数和显微组织的演变来评价不同成分和不同厚度TiAlN涂层的摩擦学性能.结果表明,随着涂层厚度的增加,涂层的摩擦系数降低,涂层更不易被磨穿,表明在一定范围内增加涂层厚度有利于提高涂层的耐磨损性能;涂层的成分发生改变时,由于Ti、Al元素的共同作用,呈现不同的摩擦性能,当Ti/Al比为50∶50时,涂层的耐磨性最好.

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