以光学石英片为衬底,采用热丝-等离子体辅助化学气相沉积方法(HF-PECVD)沉积了BN1-xPx薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDAX)、紫外-可见(UV-VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结构以及P元素掺杂量对BN1-xPx薄膜材料光学带隙的调制规律.结果表明所沉积薄膜为B、P、N组成的三元化合物,没有相偏析,定向生长,与石英衬底结合牢固.BN1-xPx薄膜中随着磷元素相对含量的增加,其光学带隙相应窄化,即通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙.
参考文献
| [1] | Mirkarimi P B;McCarty K F;Medlin .[J].Materials Science and Engineering R:Reports,1997,21:47. |
| [2] | Ronning C. .Growth, doping and applications of cubic boron nitride thin films[J].Diamond and Related Materials,2000(9-10Sep/Oct):1767-1773. |
| [3] | Sugin T;Tanikal K .[J].Diamond and Related Materials,1998,7:632. |
| [4] | Yadouni A;Soltani A;Boudrioua et al.[J].Optical Materials,2001,17(1-2):319. |
| [5] | Litvinov D;Charles A;Clarke R .[J].Diamond and Related Materials,1998,7:360. |
| [6] | Popper P;Ingles T A .[J].NATURE,1957,4596:1075. |
| [7] | 祁英昆,张溪文,郝天亮,董博,沈鸽,杜丕一,翁文剑,赵高凌,韩高荣.氮化硼光电薄膜材料的制备及其性能研究[J].材料科学与工程,2002(04):510-512,540. |
| [8] | Yasui K.;Akahane T.;Itoh H. .IMPROVEMENT IN THE STABILITY OF AMORPHOUS SIN-BN FILMS PREPARED BY HYBRID-PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,1996(1/2):305-307. |
| [9] | 邓金祥,王波,严辉,陈光华.宽带隙立方氮化硼薄膜制备[J].半导体学报,2001(01):66-68. |
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