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采用磁控溅射法制备了Ta/[NdFeB/Nd]/Ta(n=1,5,8,10)多层膜.采用X射线衍射仪、振动样品磁强计及原子力显微镜对薄膜样品的晶体结构、磁学性能及表面形貌进行了测试分析;并对薄膜的温度稳定性进行了测试.结果表明,在NdFeB与Nd的总厚度保持不变的情况下,随NdFeB/Nd层数的增加薄膜的矫顽力先增大后减小,其中n=8时样品磁性能最好.最佳磁性能为Hci=1995 kA/m,(BH)max=111.3 kJ/m3.

参考文献

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