Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响

功能材料, 2008, 39(1): 51-53.

Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响

王海成 ^1, , 杜中美 ^2, , 王立锦 ^3, , 滕蛟 ^4, , 李明华 ^5, , 于广华 ^6,

1.北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083

2.北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083

3.北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083

4.北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083

5.北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083

6.北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083

基金项目: 国家自然科学基金(50471093)

关键词：化学镀 , Co-P , 磁记录薄膜 , Ni-P

The influence of Ni-P underlayer on electroless Co-P thin film properties

采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响.研究结果表明:非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构, (100)、(002)、(101)的择优取向无明显变化;但非晶无磁的Ni-P底层可以提高薄膜的均匀性和一致性,表面无明显缺陷;细化晶粒,平均晶粒尺寸为100～150nm;提高Co-P薄膜的磁性能,矫顽力可达4.54×104A/m.当记录信号脉冲时,与铝基体上直接施镀相比,在Ni-P底层上的Co-P磁记录薄膜输出信号幅值均匀稳定,信噪比良好.

参考文献

[1]	Peeters P;Hoorn G V D et al.[J].Electrochimica Acta,2001,47:161-169.
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The influence of Ni-P underlayer on electroless Co-P thin film properties

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