以CaO-MgO-Al2O3-SiO2系玻璃为研究对象,采用N2保护气氛炉,通过石墨槽模拟浮法工艺锡槽环境,研究基础玻璃在不同温度和不同时间下的抛光过程.结果表明:钙镁铝硅玻璃在1120 ～ 1200℃温度范围内,样品最大渗锡量随温度的降低而减少,且在1 140℃之后基本保持不变.与钠钙硅浮法玻璃进行对比,结合粘度-温度曲线,确定钙镁铝硅玻璃合适的浮抛温度为1160℃.钙镁铝硅玻璃在1160℃时于锡液上停留4 min,平衡厚度达到8.25mm,且其平衡厚度大于钠钙硅玻璃的平衡厚度,钙镁铝硅玻璃最佳浮抛制度为浮抛温度1160℃,浮抛时间4 min,为钙镁铝硅系微晶玻璃的浮法生产提供理论依据.
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