立足于无铅型钛酸锶钡(BST)铁电多层膜的制备及物性研究.采用溶胶-凝胶方法制备了Ba0.9Sr0.1 TiO3铁电多层膜,并利用快速退火炉对多层膜进行热处理.重点分析两种不同热处理工艺对钛酸锶钡多层膜微观结构及相关物理性能的影响.通过X射线衍射(XRD),扫描隧道显微镜(SEM)及可见光范围反射谱测量等的表征方法,研究钛酸锶钡铁电多层膜微观结构的演化和形成机理,为制备性能优良的钛酸锶钡铁电多层膜提供基础数据.
参考文献
[1] | Scott J F.铁电存储器[M].北京:清华大学出版社,2004:2-6. |
[2] | Lines M E;Glass A M.Principles and Applications of Ferroelectric and Related Materials[M].Oxford,UK:Clarendon Press,2001:3-16. |
[3] | 李恒德.现代材料科学与工程辞典[M].济南:山东科学技术出版社,2002:444. |
[4] | 殷之文.电介质物理学[M].北京:科学出版社,2003:9-25. |
[5] | 钟维烈.铁电体物理学[M].北京:科学出版社,2000:1-18. |
[6] | Grabowski K S .Anion assisted pulsed laser deposition of lead zirconate titanate films[J].FERROELECTRICS,1991,116:19. |
[7] | Erbil A;Kim Y;Gerhardt R A .Giant permittivity in epitaxial ferroelectric heterostructures[J].Physical Review Letters,1996,77:1628. |
[8] | Bao D H;Lee S K;Zhu X H et al.Epitaxial growth of multilayered (Bi,La) 4 Ti3 O12/Pb(Zr,Ti) O3 ferroelectric thin filmswith different orientations[J].Applied Physics Letters,2005,86:082906. |
[9] | 单连伟,丁碧妍,付兴华,侯文萍,单志强.(Ba,Sr)TiO3铁电薄膜制备技术及其研究进展[J].桂林电子工业学院学报,2003(06):36-39. |
[10] | Min Y S;Cho Y J;Kim D et al.Liquid sourceMOCVD of BaxSr1-xTiO3 (BST) thin films with a N alkoxy-β-ketoiminato titanium complex[J].CHEMICAL VAPOR DEPOSITION,2001,7:146-149. |
[11] | C. Schmidt;E. P. Burte .MOCVD of ferroelectric thin films[J].Microelectronics and reliability,1999(2):257-260. |
[12] | Leedham T J;Jones A C;Wright P J et al.Novel precursors for the MOCVD of Ferroelectric thin films[J].INTEGRATED FERROELECTRICS,1999,26:85-92. |
[13] | 赵莉,杨传仁,冷文建,陈宏伟,符春林,廖家轩,高志强.退火工艺对钛酸锶钡薄膜结构的影响[J].电子元件与材料,2004(10):17-19. |
[14] | 田雪雁;徐征.铁电薄膜退火方法的研究[J].功能材料,2007(38):807-808. |
[15] | 韦其红,赵振华,付兴华,侯文萍.退火温度对铁电薄膜钛酸锶钡的影响[J].陶瓷学报,2006(01):92-96. |
[16] | Hong X K;Hu G J;Chen J et al.Ba0.9Sr0.1TiO3-based Bragg reflectors fabricated from one single chemical solution[J].Applied Physics Letters,2006,89:082902. |
[17] | 张光寅.光子学若干前沿问题[J].物理,2000(10):591-596. |
[18] | Macleod H A.Thin-film optical filters[M].Macmillan Publisher Company,New York,1986 |
[19] | 唐晋发;郑权.应用薄膜光学[M].上海:上海科学技术出版社,1984 |
[20] | 麦克劳德HA;周九林;伊百树.光学薄膜技术[M].北京:国防工业出版社,1974 |
[21] | 张道中.光子晶体[J].物理,1994(03):141. |
[22] | 李志远,张道中.光子晶体和负折射介质材料[J].中国基础科学,2005(06):7-14. |
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