以工业硅为原料采用改良西门子法生产出质量优良的多晶硅,分别采用ICP-MS、低温傅立叶变换红外光谱、硅多晶气氛区熔基P检验法和真空区熔基B检验法等,对三氯氢硅中的杂质和多晶硅产物中的P、B、C、O含量及其P、B电阻率进行了检测,报道了改良西门子法获得的优质多晶硅产品质量检测数据;对影响多晶硅产物质量的各种因素,包括原料混合气进料量变化,还原炉内生长温度,生长过程中AEG电气的电压、电流变化,以及中间产品精制三氯氢硅、氢气的质量等进行了分析讨论.研究结果对于稳定生长高质量多晶硅具有重要参考价值.
参考文献
[1] | 娄中士,左然,苏文佳,杨琳.大晶粒多晶硅铸锭生长的热场设计与模拟[J].人工晶体学报,2011(06):1602-1606. |
[2] | 冯瑞华,马廷灿,姜山,黄可.太阳能级多晶硅制备技术与工艺[J].新材料产业,2007(05):59-62. |
[3] | 姚敏,袁强辉,刘彦昌,陈万和.多晶硅制备方法及太阳能电池发展现状[J].宁夏工程技术,2009(02):182-185,190. |
[4] | 李世振.多晶硅还原炉的电器设备[J].东方电气评论,2010(03):62-68. |
[5] | Habuka H.;Akiyama S.;Otsuka T.;Qu WF.;Shimada M.;Okuyama K.;Aoyama Y. .Chemical process of silicon epitaxial growth in a SiHCl3-H-2 system[J].Journal of Crystal Growth,1999(1/2):77-86. |
[6] | 张攀,王伟文,董海红,吴玉雷,陈光辉,李建隆.三氯氢硅和氢气系统中多晶硅化学气相沉积的数值模拟[J].人工晶体学报,2010(02):494-499. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%