采用恒电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜.研究了沉积电位、8-羟基喹啉浓度、NaOH浓度、沉积时间等工艺条件对薄膜耐蚀性的影响.分别采用盐水周浸泡试验、三氯化铁缝隙试验和Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性.采用扫描电镜表征了聚8-羟基喹啉薄膜的表面形貌.恒电位法沉积的最佳工艺条件为:8-羟基喹啉2 mmol/L,NaOH 0.4 mol/L,电位0.5 V,时间300 s,室温.采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性略优于循环伏安法试样,远优于空白工件.
参考文献
[1] | 胡波年,谢治辉,余刚,张俊,叶立元.镁合金直接化学镀镍存在的问题与发展趋势[J].材料保护,2010(04):19-25,67. |
[2] | 肖鑫,储荣邦.镀镍层针孔和麻点的故障及其排除方法[J].电镀与涂饰,2004(04):53-58. |
[3] | 朱立群,刘慧丛,吴俊.化学镀镍层封孔新工艺的研究[J].电镀与涂饰,2002(03):29-33. |
[4] | 侯峰,徐宏,关凯书,张而耕,汪皓.化学镀镍磷合金表面涂覆SiO2溶胶-凝胶封孔技术研究[J].表面技术,2004(02):26-28. |
[5] | 刘其宗,张迎春,刘艳红,李绪亮,江凡,葛昌纯.电沉积钨及钨合金涂层的研究进展[J].材料导报,2012(01):142-146. |
[6] | 梁镇海,夏玺华.电化学法制备Zn-Ni合金晶须[J].电化学,2008(02):180-183. |
[7] | 屠振密,胡会利,程瑾宁,李宁.电沉积合金研究的新进展[J].电镀与涂饰,2007(07):42-47. |
[8] | 孔祥存,吴玉程,杨友文,解挺,叶敏,李广海,张立德.电沉积制备磁性纳米线的研究进展[J].物理,2009(05):349-355. |
[9] | 李纯,张昭,张鉴清,曹楚南.纳米结构CeO2薄膜的阳极电沉积及腐蚀行为的研究现状[J].腐蚀科学与防护技术,2010(04):359-362. |
[10] | 朱小红 .电沉积聚合物和纳米颗粒构造电化学传感器以及纳米电极的研制[D].中国科学技术大学,2007. |
[11] | 张兰勇,万莹,张炯,李迪,王利华,宋世平,樊春海.基于电沉积导电聚合物薄膜的高灵敏DNA电化学传感器[J].中国科学B辑,2009(07):658. |
[12] | 白利锋,闫志巾.电沉积铜铟镓硒太阳能电池的研究进展[J].材料导报,2010(z1):256-258. |
[13] | BASOL B M .Method of fabricating solar cells with electrodeposited compound interface layers[P].US,8580603,2013-11-12. |
[14] | 张三兵,李作鹏.电沉积钌作为染料敏化太阳能电池对电极研究[C].第十三届全国太阳能光化学与光催化学术会议论文集,2012:424-424. |
[15] | 储洪强,蒋林华,黄晓刚.电沉积处理后带裂缝混凝土的抗碳化性能研究[J].材料导报,2006(04):145-147. |
[16] | 储洪强 .电沉积方法修复混凝土裂缝技术研究[D].河海大学,2005. |
[17] | 李森林,卢青法,徐宁,张骏.电沉积修复混凝土裂缝技术研究进展及研究方向[J].混凝土,2013(02):139-142. |
[18] | 刘小勤,曾冬铭,黄凤祥,刘中兴.镍基电沉积制备聚8-羟基喹啉薄膜[J].电镀与涂饰,2013(11):1-4. |
[19] | 刘小勤,曾冬铭,徐钦建,黄凤祥,刘中兴.电沉积聚8-羟基喹啉膜及其耐蚀性的研究[J].表面技术,2013(02):84-88. |
[20] | 郭东萍,薛士科,王春玉.化学镀镍磷层孔隙率的电化学评价[J].材料保护,2007(09):28-30. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%