用TiCl4作为反应气体制备PCVD TiN镀层,对降低界面的氯含量,改善PCVD TiN镀层的界面性能进行了研究.在镀层制备过程中增加了界面制备过程,即采用氩离子轰击以及氢的反应使界面的氯含量降低,膜基界面得到改善.结果表明,与常规PCVD制备的TiN镀层相比,膜层的结合强度有大幅度的提高,耐磨性和耐蚀性均有改善,特别是其耐蚀性达到甚至超过奥氏体不锈钢的水平.
参考文献
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