溅射态原位加热NiTi形状记忆合金薄膜的结构性能研究

1.上海交通大学,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030

2.上海交通大学,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030

3.上海交通大学,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030

4.上海交通大学,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030

基金项目: 上海市应用材料研究与发展基金(0315)

Structure and Performance of NiTi Shape Memory Alloy Thin Films Sputter-Deposited by Situ Heating

研究了原位加热溅射的NiTi形状记忆合金薄膜的结构,讨论了制备工艺及织构对薄膜相变特征的影响,采用电阻法及X射线衍射分析了薄膜的结构及相变过程,确定了最适合于微器件的溅射工艺.结果发现:溅射时采用原位加热可直接获得具有织构的晶化薄膜,提高溅射功率将使薄膜的相变温度升高.

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