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研究了退火工艺对FeSiB非晶薄带压应力阻抗(SI)效应的影响.结果表明,与淬态非晶薄带相比,退火可以改变非晶薄带的SI效应.当退火时间为1 h,退火温度低于300 ℃时,退火后薄带的SI效应增强,且薄带的SI效应随着退火温度的升高而增强,退火温度升高到400 ℃时,薄带的SI效应减弱;当退火温度为300 ℃,退火时间小于1.5 h时,退火后薄带的SI效应增强,且薄带的SI效应随着退火时间的延长而增强,退火时间大于1.5 h时,薄带的SI效应反而随着退火时间的延长而减弱;经300 ℃, 1.5 h退火后薄带的SI效应最强.当测试压应力为1.42 MPa,测试频率为60 MHz时,淬态非晶薄带的SI效应为1.12%,经300 ℃, 1.5 h退火后薄带的SI效应可达1.52%.

参考文献

[1] Murillo N;Gonzalez J .[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,2000,31A(02):555.
[2] Mohri K.;Kohsawa T. .Magneto-inductive effect (MI effect) in amorphous wires[J].IEEE Transactions on Magnetics,1992(5):3150-3152.
[3] Panina L V;Mohri K .[J].Physics Letters,1994,65(09):1189.
[4] Kitohri T;Mohri K;Uchiyama T .[J].IEEE Transactions on Magnetics,1995,31(06):3137.
[5] Panina L V;Mohri K;Bushida K et al.[J].Applied Physics,1994,76(10):6198.
[6] Mohri K.;Panina I.V. .Sensitive and quick response micro magnetic sensor utilizing magneto-impedance in Co-rich amorphous wires[J].IEEE Transactions on Magnetics,1995(2):1266-1275.
[7] Inada K.;Mohri K. .Quick response large current sensor using amorphous MI element resonant multivibrator[J].IEEE Transactions on Magnetics,1994(6):4623-4625.
[8] Takagi M.;Katoh M. .Magnet displacement sensor using MI elements for eyelid movement sensing[J].IEEE Transactions on Magnetics,1993(6):3340-3342.
[9] Mohri K et al.[J].IEEE Transactions on Magnetics,1993,19(06):3168.
[10] Senda M.;Ishii O. .Thin-film magnetic sensor using high frequency magneto-impedance (HFMI) effect[J].IEEE Transactions on Magnetics,1994(6):4611-4613.
[11] 杨国宁,张万里,彭斌,蒋洪川,张永强.FeCoSiB单层和FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层磁弹性膜应力阻抗性能研究[J].磁性材料及器件,2004(06):22-24.
[12] 茅昕辉,禹金强,周勇,吴茂松,蔡炳初.FeSiB薄膜的巨磁阻抗和应力阻抗效应研究[J].真空科学与技术学报,2002(06):429-433.
[13] 宋晖,朱正吼.FeSiB非晶带材的制备及其力学性能[J].新技术新工艺,2005(02):47-48.
[14] Yamaguchi M;Suezawa K;Arai K L et al.[J].Journal of Applied Physics,1999,85(11):7919.
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