利用磁控溅射法,在K9玻璃基底上沉积氧化镍(NiO)薄膜.采用不同温度时氧化镍薄膜进行氮气退火,使用UV1700型分光光度计、JSM-6490LV型扫描电子显微镜、四探针电阻计等分析退火后氧化镍薄膜性能的变化.实验结果表明,500℃退火范围内,氧化镍薄膜的透过率随退火温度的升高明显增加,400℃时透过率达到最大在80%以上,且光学带隙最小,结晶度较高,薄膜成分变化较小,更适于太阳电池窗口层的应用研究.
参考文献
[1] | 王连超,孟凡利,孙宇峰,黄行九,刘锦淮.电致变色纳米氧化镍薄膜的溶胶-凝胶法制备与表征[J].无机材料学报,2004(06):1391-1396. |
[2] | 李珍,焦正,吴明红,王德庆,王艳丽,顾建忠.溶胶-凝胶法制备NiO薄膜[J].稀有金属材料与工程,2004(z1):108-110. |
[3] | 娄向东,王天喜,楚文飞.纳米NiO的制备及应用的研究进展[J].材料导报,2005(z1):125-127,139. |
[4] | 董燕,张波萍,张雅茹,李向阳.Li和Ti共掺NiO薄膜的溶胶-凝胶法制备及其介电性能[J].功能材料,2006(08):1226-1228. |
[5] | Jang WL;Lu YM;Hwang WS .Effect of different atmospheres on the electrical stabilization of NiO films[J].Vacuum: Technology Applications & Ion Physics: The International Journal & Abstracting Service for Vacuum Science & Technology,2008(3):596-598. |
[6] | 何作鹏 .NiO基半导体光电薄膜的制备及性能研究[D].浙江大学,2005. |
[7] | Gupta, RK;Ghosh, K;Kahol, PK .Fabrication and characterization of NiO/ZnO p-n junctions by pulsed laser deposition[J].Physica. E, Low-dimensional systems & nanostructures,2009(4):617-620. |
[8] | A. Hakim;J. Hossain;K.A. Khan .Temperature effect on the electrical properties of undoped NiO thin films[J].Renewable energy,2009(12):2803-2812. |
[9] | 赵翠华,张波萍,陈灿,张美霞.退火温度对Au/NiO纳米颗粒复合薄膜光吸收性能的影响[J].稀有金属材料与工程,2009(z2):647-649. |
[10] | Purushothaman, K. K.;Muralidharan, G. .The effect of annealing temperature on the electrochromic properties of nanostructured NiO films[J].Solar Energy Materials and Solar Cells: An International Journal Devoted to Photovoltaic, Photothermal, and Photochemical Solar Energy Conversion,2009(8):1195-1201. |
[11] | Peiwa B;Koeareva T M;Najdoski .A solution growth route to nanocrystalline nikel oxide thin fims[J].Applied Surface Science,2000,165(04):271. |
[12] | 刘恩科;朱秉升.半导体物理学[M].北京:电子工业出版社,2008:319. |
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