溅射气压和沉积时间对c-BN薄膜结构的影响

功能材料, 2002, 33(1): 82-83.

1.北京工业大学材料科学与工程学院,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

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基金项目: 北京市科技新星计划项目(2992002)

Dependence of e-BN film structure on working pressure and growth time

采用磁控反应溅射方法,在Si(100)衬底上沉积c-BN薄膜.研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响.结果表明.随溅射气压的升高或沉积时间的增加,都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果,并导致薄膜中c-BN相含量的减小.

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