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列出了各类粒子的产生、输运和它们同靶表面反应的速率方程,并计及高能中性粒子对靶面溅射的剥离速率方程.有关方程耦合后求解溅射速率与气体流量和放电电流的关系.本文强调反应粒子的反应碰撞,论述了从粒子输运出发探讨薄膜生长方法的优点.

参考文献

[1] Berg S;Larsson T;Nender C;Blom H O .Predicting Thin-filmStoichiometry in Reactive Sputtering[J].Journal of Applied Physics,1988,63(03):887-891.
[2] Schiller S;Heisig U;Korndorter CHR et al.The Effect of Target Surface Coupling on Reactive Direct Current Magnetron Suputtering[J].Surface and Coatings Technology,1989(39-40):549-564.
[3] Wang Jingyi;Chen Wei;WANG Yu;Zhao Ning,He Xiaoming .Criterion Analysis on Nonpoisoning of the Target Surface[J].Journal of Applied Physics,1993,73(05):2518-2523.
[4] 陶甫廷,王敬义,冯信华,罗文广,张巍,陈文辉,赵宁,尹盛.粉粒在等离子体中沉降的运动学分析[J].稀有金属材料与工程,2001(01):11-14.
[5] 王敬义,王宇,陶甫廷,陈文辉,张巍,冯信华,陶臻宇,尹盛.提高粉粒沉降过程中等离子体纯化能力的研究[J].稀有金属材料与工程,2001(04):253-256.
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