光电集成是未来信息技术发展的重要方向之一,硅基光电集成具有巨大的应用前景,在硅基材料及集成方面源头创新空间很大.论述了新颖的硅基材料研究现状及应用前景.
参考文献
| [1] | Richard A Scoref.[C].Proceeding of the IEEE,1993:186. |
| [2] | Patton G L et al.[J].IEEE Transactions on Electron Devices,1990,11:171. |
| [3] | Hirschman P M et al.[J].Nature,1996,384:338. |
| [4] | Faucher P M.In light emission from silicon[M].Academic Press,1997 |
| [5] | 余金中 .[J].半导体杂志,1998,23:21. |
| [6] | Kimerling L C.Phase stability and optical properties of the Er : Si system[A].,1993 |
| [7] | Ren F Y G;Michel J et al.IC compatible processing of Si:Er for optoelectronics[A].,1993,298 |
| [8] | 叶志镇,黄靖云,卢焕明,姜小波,汪雷,赵炳辉,阙端麟.硅上超高真空CVD生长硅锗外延层及其特性研究[J].半导体学报,1999(01):30. |
| [9] | Ye Zhi-zhen;Zhang Hao-xiang;Lu Huanming et al.[J].Ch Phys Lett,1999,16(04):293. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%