利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等分析手段,研究Mg-11Gd-1Y-0.5Zn合金微弧氧化陶瓷层的生长规律,分析微弧氧化膜层相结构及不同生长阶段的耐蚀性.结果表明,在微弧氧化初期,膜层生长遵循直线规律,为典型的电化学极化控制的阳极沉积阶段;随处理时间的延长及膜层增厚,膜层生长符合抛物线规律,属微弧氧化阶段,较氧化初期相比,生长速率慢:在弧光放电阶段,抛物线斜率增大,疏松层增厚,生长速率有所提高.微弧氧化疏松层主要以MgSiO<,3>为主,致密层以MgO为主;微弧氧化各阶段,膜层耐蚀性随氧化时间增长而提高,到弧光放电阶段,耐蚀性有所降低.在7～12 min时,膜层具有较好的耐蚀性.
参考文献
| [1] | Mordike B L;Ebert T .[J].Materials Science and Engineering,2001,30(02):37. |
| [2] | Gray J E;Luan B .[J].Journal of Alloys and Compounds,2002,336:88. |
| [3] | 郭洪飞,安茂忠,霍慧彬,徐莘.电解液组成对AZ91D镁合金微弧氧化的影响[J].材料科学与工艺,2006(02):116-119. |
| [4] | 蒋百灵,张淑芬,吴国建,雷廷权.镁合金微弧氧化陶瓷层显微缺陷与相组成及其耐蚀性[J].中国有色金属学报,2002(03):454-457. |
| [5] | Khaselev O;Weiss D;Yahalom T .[J].Journal of the Electrochemical Society,1999,146(05):1757. |
| [6] | 薛文斌 .[J].硅酸盐学报,2002,4(04):35. |
| [7] | 张淑芬,张先锋,蒋百灵.镁合金微弧氧化陶瓷层形成及生长过程的研究[J].中国表面工程,2004(01):35-38. |
| [8] | 王燕华,王佳,张际标.微弧氧化处理对AZ91D镁合金腐蚀行为的影响[J].中国腐蚀与防护学报,2006(04):216-220. |
| [9] | 陈宏,郝建民,王利捷.镁合金微弧氧化陶瓷层耐蚀性的电化学分析[J].腐蚀与防护,2004(09):383-385. |
| [10] | 郝建民,陈宏,张荣军,蒋百灵.镁合金微弧氧化陶瓷层的耐蚀性[J].中国有色金属学报,2003(04):988-991. |
| [11] | Yerokhin A L;Nie X;Leyland A .[J].Surface and Coatings Technology,2000,132(02):195. |
| [12] | Yao Zhongping;Jiang Zhaohna;Wang Fuping et al.[J].Journal of Materials Processing Technology,2007,190(03):117. |
| [13] | Wang Y M;Wang F H;Xu M J et al.[J].Applied Surface Science,2009,255(07):9124. |
| [14] | Jin-Young CHO,Duck-Young HWANG,Dong-Heon LEE,Bongyoung YOO,Dong-Hyuk SHIN.Influence of potassium pyrophosphate in electrolyte on coated layer of AZ91 Mg alloy formed by plasma electrolytic oxidation[J].中国有色金属学报（英文版）,2009(04):824-828. |
| [15] | Xue Wenbin;Zhu Qingzhen;Jin Qian.[J].Materials Chemistry and Physics,2009(12):648. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%