退火温度对TiO2薄膜结构与光学性能的影响

功能材料, 2007, 38(11): 1773-1776.

退火温度对TiO2薄膜结构与光学性能的影响

孟凡明 ^1, , 周明飞 ^2, , 宋学萍 ^3, , 孙兆奇 ^4,

1.安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学,光电信息获取与控制教育部重点实验室,安徽,合肥,230039

2.安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学,光电信息获取与控制教育部重点实验室,安徽,合肥,230039

3.安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学,光电信息获取与控制教育部重点实验室,安徽,合肥,230039

4.安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;安徽大学,光电信息获取与控制教育部重点实验室,安徽,合肥,230039

基金项目: 国家自然科学基金(50642038) 安徽省高等学校省级自然科研基金(KJ2007B132) 教育部高等学校博士学科点专项科研基金(20060357003)

关键词： TiO2薄膜 , 射频磁控溅射 , 退火,锐钛矿 , 金红石

Influence of annealing temperature on the structure and optical properties of TiO2 thin films

研究退火温度对薄膜相结构、表面化学组成、形貌及光学性能的影响.采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上负载TiO2薄膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、X光电子能谱(XPS)和紫外可见光谱(UV-vis)对其进行表征.结果表明,常温制备400℃以下退火的TiO2薄膜为无定形结构,400℃以上退火的TiO2薄膜出现锐钛矿相,600℃以上退火的TiO2薄膜开始出现金红石相,退火温度在1000℃以上时样品已经完全转变为金红石相;高温退火薄膜的组成为TiOx;随着退火温度的升高,薄膜透射率下降,折射率和消光系数有所增加.

参考文献

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