常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究

功能材料, 2010, 41(5): 847-850.

常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究

段钢锋 ^1, , 赵高凌 ^2, , 林小璇 ^3, , 吴历清 ^4, , 杜丕一 ^5, , 翁文剑 ^6, , 汪建勋 ^7, , 韩高荣 ^8,

1.浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027

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8.浙江大学,材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027

基金项目: 国家自然科学基金(50672086)

关键词：氮化钛 , 常压化学气相沉积法 , 沉积时间 , 结构 , 阳光控制性能

Structure and energy saving performance of TiN films prepared by atomspheric pressure chemical vapor deposition

在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜.对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究.随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的.光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能.然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能.

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