通过正交试验分别考察了NiSO4·6H2O、NaH2PO2·H2O、C2H5COOH、H3BO3含量,pH和温度对石英光纤表面化学镀Ni-P合金的影响,并确定了其优化条件分别为35 g/L、32 g/L、20mL/L、28g/L,pH 5.0及84℃.用体视显微镜(SM)、电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)和X射线衍射(XRD)对镀层的表面形貌、组成和结构进行了表征和分析.采用单因素试验研究了上述各工艺参数对Ni-P合金沉积速率的影响,建立了Ni-P合金沉积速率的动力学方程.经实验验证,该模型与实验结果吻合度较好,可用于石英光纤表面化学镀Ni-P沉积过程的调节和产物的控制.
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