NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响

功能材料, 2004, 35(z1): 715-717.

NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响

张勤勇 ^1, , 蒋洪川 ^2, , 张万里 ^3, , 张金平 ^4, , 杨仕清 ^5,

1.华西大学,材料系,四川,成都,610039

2.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

3.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

4.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

5.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

基金项目: 四川省稀土工程研究中心基金国防预研基金(2000J12.3.2DZ0219)

关键词： CoNdNiMnP永磁薄膜阵列 , 电镀 , 垂直各向异性 , 铁磁耦合

The effect of NdCl3 concentration on electroplating CoNdNiMnP permanent magnetic film arrays

基于轻稀土元素-Nd与过渡金属元素-Co之间的铁磁耦合作用提高电镀CoNiMnP永磁薄膜阵列的磁性能,在电镀时引入稀土Nd元素进入CoNiMnP永磁薄膜阵列中,通过改变镀液中NdCl3的浓度而改变CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量.对镀液中NdCl3浓度与薄膜磁性能的关系进行了分析与测试,结果表明:室温下,在电流密度为5mA/cm2时,具有垂直各向异性的CoNdNiMnP永磁薄膜阵列被成功地电镀得到.随着NdCl3浓度的增加,薄膜的磁性能提高,当NdCl3浓度增加到0.25×103g/cm3时,薄膜的磁性能达到最大值,继续增加镀液中NdCl3浓度,薄膜阵列的磁性能不再增加.

参考文献

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