Si衬底上RF磁控溅射MgO薄膜的研究

功能材料, 2010, 41(7): 1205-1207.

Si衬底上RF磁控溅射MgO薄膜的研究

侯捷 ^1, , 张丛春 ^2, , 杨春生 ^3, , 丁桂甫 ^4,

1.上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海200240

2.上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海200240

3.上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海200240

4.上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海200240

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2007AA04Z338) 国家自然科学基金资助项目(60701012)

关键词：射频磁控溅射 , MgO , XRD , SEM

Research of RF magnetron sputtering MgO thin films on Si

采用射频磁控溅射(rf magnetron sputtering)在Si(100)衬底上生长得到MgO薄膜.将在不同气压和Ar分压条件下得到的样品在氧气氛围下1000℃退火并进行X射线衍射(XRD)分析,结果表明,溅射总气压和O2分压影响MgO薄膜的择优取向,控制总气压和Ar分压可以控制MgO薄膜的晶格取向,Si衬底取向也对薄膜的择优取向产生影响.通过扫描电子显微镜(SEM)分析发现,MgO薄膜经过高温退火形成结晶并产生了表面裂纹.

参考文献

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