采用stber法制备SiO2胶粒,经自然沉降的过程制备SiO2有序模板,再通过HA前驱体溶胶灌注、烧结和碱液浸渍等过程,制备了三维有序多孔羟基磷灰石(HA).采用XRD、TEM、FESEM和Zeta电位对样品的物相、微观结构、孔分布及表面电性能进行研究.结果显示,H2O2表面改性使得SiO2胶粒Zeta电位升高,有利于提高模板的有序性.制备的SiO2胶粒粒径约为250nm,由胶粒形成的多孔羟基磷灰石的孔径约为200nm,孔间由孔径约为20nm的微孔互相连接.此外,还考察了羟基磷灰石前驱体浓度、用量以及碱液浸渍时间对多孔材料的成型、孔结构、孔隙率的影响.当使用的前驱体浓度为0.8mol/L,用量占模板体积的30%,浸渍在4mol/L 的NaOH中3d后,形成的多孔HA有序性良好.
参考文献
[1] | Kuo Chiung-Wen,Shiu Jau-Ye,Wei Kung-Hwa,et al.Journal of Chromatography A,2007,1162(2):175-119. |
[2] | Mann S.Journal of Material Chemistry,1995,7(5):935-946. |
[3] | 肖素光,赵婧,翁杰.功能材料,2007,38(3):432-434. |
[4] | 孔桦,孟洁,郭小天,等.透析与人工器官,2005,16(3):12-15. |
[5] | 方俊,王秀峰,程冰.精细化工,2006,23(12):1151-1154. |
[6] | 丛海林,曹维孝.高等学校化学学报,2003,24(8):1489-1491. |
[7] | Lee S G,Jang Y S,Park S S,et al.Materials Chemistry and Physics,2006,100 (2-3):503-506. |
[8] | Li Wenjiang,Fu Tao,He Sailing.Materials Science and Engineering A,2006,441 (1-2):239-244. |
[9] | Seshadri R,Meldrum F C.Adv.Mater.,2000,12(15):1149-1151. |
[10] | Stber W,Fink A.Journal of Colloid and Interface Science,1968,26(1):62-69. |
[11] | 丁敬,高继宁,唐芳琼.化学进展,2004,16(3):321-326. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%