对物理气相沉积(PVD)薄膜材料和固体金属材料进行了XRD扫描分析.结果表明,PVD薄膜晶体与固体金属晶体未出现明显变化,但衍射峰呈现宽化.由于磁控溅射技术制备出的PVD薄膜晶粒是堆层沉积,致使PVD薄膜出现晶格不完整性,即存在各种晶格缺陷和晶格畸变.PVD薄膜晶格缺陷是导致薄膜材料电性能变化的主要原因.
参考文献
| [1] | 李学丹;万英超;姜祥祺.真空沉积技术[M].杭州:浙江大学出版社,1994:106. |
| [2] | 田民波;刘德令.膜科学与技术手册[M].北京:机械工业出版社,1991:706. |
| [3] | 赵宗彦.X射线与物质结构[M].合肥:安徽大学出版社,2004 |
| [4] | 祁景玉.X射线结构分析[M].上海:同济大学出版社,2003 |
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