本文采用K6P4O13(K6)作助熔剂来生长Rb∶KTP晶体,所生长的晶体具有电导率低,吸收系数稳定和好的抗灰迹性能等优点.本文按照生长比例KTP∶K6=1.345∶1(物质的量比),Rb离子浓度为取代溶液中K离子浓度的1.4 mol%左右来进行配料.测量了Rb∶KTP晶体中掺杂的Rb离子浓度为0.87 mol%,经过测试,晶体的电导率达到10-10 S/cm.测试了晶体随时间延长的光能吸收,发现Rb∶KTP晶体的吸收系数比较稳定,并进行了晶体抗灰迹性能激光测试,发现Rb∶KTP晶体较普通KTP晶体具有很好的抗灰迹性能.
参考文献
[1] | 葛世艳,师瑞泽,肖亚波,李祯,张杰,姜秀丽,王立弟.K4体系KTP晶体的制备及其性能研究[J].硅酸盐通报,2011(05):1072-1076. |
[2] | 卢秀权,陈绍和.KTP电光开关[J].中国激光,1999(04):321-324. |
[3] | 谢兴龙.新型KTP电光偏转器的设计和分析[J].光学学报,1997(11):1571. |
[4] | 张书峰 .低电导率KTP晶体生长及其性能研究[D].北京工业大学,2003. |
[5] | 沈德忠.KTP晶体的电光研究进展[J].人工晶体学报,2001(01):28-35. |
[6] | 苏榕冰,陈昱,陈黎娜,陈金凤,曾文荣,庄健.抗"灰迹"KTP晶体光学性能研究[J].人工晶体学报,2008(01):104-108. |
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