为制备Fe-6.5％Si高硅钢片,先利用PCVD技术在0.2 mm厚的纯铁片表面沉积硅,再进行高温扩散.通过正交实验分析了沉积硅的工艺参数对表层硅含量的影响,并研究了扩散参数对截面硅含量分布的影响.结果表明:以10％ Sill4+90％ Ar作为渗源气,在500℃下沉积20 min,所得样品的表层硅含量高达40.5％；然后在工业纯氢气的保护下,于1050℃保温60 min,可获得满足要求的Fe-6.5％Si高硅钢片.
参考文献
| [1] | 杨劲松,谢建新,周成.6.5%Si高硅钢的制备工艺及发展前景[J].功能材料,2003(03):244-246. |
| [2] | 董丹阳 .钢的激光辅助渗硅过程与组织性能[D].东北大学,2008. |
| [3] | 王东,王春霖.6.5%Si电工钢的特性及应用[J].南方金属,2009(06):26-29. |
| [4] | 王蕾,周树清,陈大凯.PCVD法渗Si的研究[J].武汉科技大学学报(自然科学版),2000(03):245-246. |
| [5] | 游涛,黄璞,冯大军,张恒.扩散工艺对6.5%WtSi高硅钢性能的影响[J].武汉工程职业技术学院学报,2005(03):1-3,68. |
| [6] | 吴润;陈大凯;夏先平 等.高硅钢的PCVD制造工艺及其电磁性能[J].钢铁研究学报,1997,9(04):42-45. |
| [7] | 李慧,李运刚,梁精龙.6.5%Si硅钢片制备技术的进展[J].特殊钢,2008(06):23-25. |
| [8] | 郑锋,张巧云.6.5%Si钢的制备工艺[J].特钢技术,2011(02):5-7. |
| [9] | 蔡宗英 .熔盐电沉积法制备Fe-6.5wt﹪Si薄板研究[D].河北理工学院,2003. |
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