氯化物三价铬电镀液中六价铬离子的去除方法及效果

材料保护, 2009, 42(2): 74-76.

氯化物三价铬电镀液中六价铬离子的去除方法及效果

胡晓谮 ^1, , 屠振密 ^2, , 李永彦 ^3, , 孙化松 ^4, , 李宁 ^5,

1.哈尔滨工业大学(威海)海洋学院,山东,威海,264209

2.哈尔滨工业大学(威海)海洋学院,山东,威海,264209

3.哈尔滨工业大学(威海)海洋学院,山东,威海,264209

4.哈尔滨工业大学(威海)海洋学院,山东,威海,264209

5.哈尔滨工业大学(威海)海洋学院,山东,威海,264209

关键词：三价铬电镀 , 氯化物 , 六价铬离子 , 稳定剂 , 去除

Elimination of Cr (Ⅵ) in Trivalent Chromium Chloride Electroplating Bath

三价铬电镀过程中六价铬离子对镀层质量的影响很大,因此研究电镀过程中六价铬的积累及消除对三价铬电镀液的维护和产品质量保证具有重要意义.研究了氯化物体系三价铬镀液中六价铬的积累规律和相应的改进措施,分别比较了添加剂A(含c=c双键的有机醛类化物)和溴化铵对六价铬生成速度的影响.结果表明,5 g/L稳定剂A或溴化铵均能降低六价铬的生成速度.同时采用添加4 g/L稳定剂A或溴化铵、过氧化氢还原和1 A/dm2小电流电解的方法对六价铬进行去除,经测试效果良好.

参考文献

[1]	屠振密;郑剑;李宁.三价铬电镀铬发展现状及发展趋势[J].电子电镀,2006(04):20-27.
[2]	郑剑,屠振密,李宁,张景双,杨闯.三价铬电镀装饰铬工艺及特性研究[J].材料保护,2008(01):24-27.
[3]	Lansdellp;Farr J P G .The Corrosion Resistance of Chromium Electroplated from Trivalent and Hexavalent Chromium Plating Solutions[J].Transactions of the Institute of Metal Finishing,1997,75(06):219-223.
[4]	郭崇武,王吉民.镀铬溶液中六价铬和三价铬的快速测定[J].电镀与精饰,2006(04):50-52.
[5]	张丽.二苯碳酰二肼分光光度法测水中六价铬的不确定度评定[J].浙江预防医学,2006(08):76-77.
[6]	徐子刚,郑琳,吴清洲.大量三价铬中微量六价铬的分离和测定[J].环境污染与防治,2002(05):314-315.

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